王富安

博士 , 教授
研究方向: 分析化学,核酸化学
联系电话: 18502752721
Email: fuanwang@whu.edu.cn

1999.09-2003.07 郑州大学化学系 化学学士
2003.09-2009.01 中科院长春应化所 电分析化学国家重点实验室 分析化学博士
2009.02-2014.06 耶路撒冷希伯来大学 化学研究所 博士后
2014.07-现在 武汉大学 化学与分子科学学院 教授、博导

    中组部第五批“青年千人计划”获选人,主要在包括生物传感器、功能化核酸类酶/蛋白酶的恒温信号扩增新体系、DNA超分子纳米结构、核酸纳米机器、核酸分子逻辑计算器件和线路等领域开展了系统工作,积累了丰富的经验,取得了一些突破性进展和原创性成果。研究工作受到国际同行认可,相关成果全部以科技论文形式发表在相关领域国际权威学术期刊上,截至目前,已经累计发表论文近60篇(21篇第一作者论文,其中影响因子大于40的1篇,10-40的8篇,5-9的10篇,小于5的2篇),包括在自然系列Nat. Nanotechnol.发表1篇,美国化学会Chem. Rev.发表1篇,J. Am. Chem. Soc.发表5篇,Nano lett.发表3篇,ACS Nano发表3篇,德国Angew. Chem. Int. Ed.发表4篇,Adv. Mater.发表2篇,Adv. Func. Mater.发表1篇等。申请美国专利一项,参与编写关于核酸纳米机器和器件的书目章节两个。发表文章总影响因子超过450,获得他人引用超过2000,H因子25。长年招收硕士,博士研究生,欢迎有相关化学,生物,医学,材料背景的同学报考;并随时欢迎博士后和研究助理的加入,共同学习,提供尽量宽松的学习氛围和尽量好的生活科研条件。

10篇代表性论文

1. Fuan Wang, Xiaoqing Liu, Itamar Willner*. Angew. Chem. Int. Ed. 2015, 54, 1098-1129. DOI: 10.1002/anie.201404652
2. Fuan Wang, Chun-Hua Lu Itamar Willner*. Chem. Rev. 2014, 114, 2881–2941. DOI: 10.1021/cr400354z (封面)
3. Fuan Wang, Xiaoqing Liu, Chun-Hua Lu, Itamar Willner*. ACS Nano 2013, 7, 7278–7286. DOI: 10.1021/nn402810x
4. Fuan Wang, Xiaoqing Liu, Itamar Willner*. Adv. Mater. 2013, 25, 349–377. DOI: 10.1002/adma.20120​1772
5. Johann Elbaz†, Fuan Wang†, Raphael D. Levine, Francoise Remacle, Itamar Willner*. Nano Lett. 2012, 12, 6049−6054. DOI: 10.1021/nl300051g († Equal contributor) (封面)
6. Fuan Wang, Johann Elbaz, Itamar Willner*. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 5504–5507. DOI: 10.1021/ja300616w
7. Chunhua Lu†, Fuan Wang†, Itamar Willner*. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 10651–10658. († Equal contributor), DOI: 10.1021/ja3037838
8. Fuan Wang, Johann Elbaz, Ron Orbach, Nimrod Magen, Itamar Willner*. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 17149-17151. DOI: 10.1021/ja2076789 Highlight by Life Science Weekly on December 20, 2011
9. Fuan Wang, Johann Elbaz, Carsten Teller, Itamar Willner*. Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 295-299. DOI: 10.1002/anie.201005246
10. Johann Elbaz, Oleg Lioubashevski, Fuan Wang, Françoise Remacle, Raphael D. Levine, Itamar Willner*. Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 417-422. DOI: 10.1038/nnano.2010.88 Highlight by New Scientist